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銅抛光劑厂家告诉您抛光液的制作
編輯:東莞市立優表面處理科技有限公司   發布時間:2019-06-19

今天,銅抛光劑厂家東莞市立優表面處理科技有限公司告诉您抛光液的制作:

依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等,對矽單晶片化學機械抛光(CMP)機理、動力學控制過程和影響因素研究標明,化學機械抛光是一個複雜的多相反應,它存在著兩個動力學過程:

(A)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的矽原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。

(B)抛光表面反應物脫離矽單晶表面,即解吸過程使未反應的矽單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制抛光速率的另一個重要過程。

矽片的化學機械抛光過程是以化學反應爲主的機械抛光過程,要獲得質量好的抛光片,必須使抛光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械抛光作用,則抛光片表面産生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用,則表面産生高損傷層。

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